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主要用于稀土制備、電子照明、晶體退火、生物陶瓷、電子陶瓷、特種合金、磁性材料、精密鑄造、金屬熱處理等行業進行真空燒結等
廣泛用于航天航空、陶瓷、冶金、電子、玻璃、發光材料、有色金屬、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生
真空氣氛爐廣泛用于陶瓷、冶金、電子、玻璃、化工、機械、耐火材料、新材料開發、特種材料、建材等領域的生產及實驗。
廣泛用于鋰電材料、稀土、磁性材料原料、電子粉料、電器瓷件等行業
適用范圍廣
各類大專院校及工業實驗室實驗
精細分級
溫度不同，燒制材料不同，所用材料不同
易維護
結構簡單，維護方便。
智能操作
智能化控制，操作簡單
靶材氧氣爐
用途：玻璃熒光屏、顯示器鍍膜專用。
技術參數：
爐膛尺寸300*200*200mm
壓力10mpa
溫度1700℃
電壓：380 V
控制：儀表控制，可編程
爐膛材料：進口氧化鋁纖維板
殼體：壓力容器技術制作
測溫元件：B型熱電偶
加熱元件：U型硅鉬棒
外觀尺寸：寬1200mm，長1000mm,高1700mm
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